La deposición química de vapor (CVD) es un proceso al vacío utilizado para producir materiales sólidos de alta pureza y alto rendimiento. A diferencia de la proyección térmica, que se basa en fundir y acelerar partículas sólidas, el CVD se basa en las reacciones químicas de precursores gaseosos directamente en la superficie del sustrato. A menudo se utiliza junto con la proyección térmica, o en competencia con ella, para aplicar películas delgadas especializadas, aunque está limitado por unas tasas de deposición lentas y la necesidad de una cámara de vacío.
The customer asked for CVD diamond, but we convinced them our HVOF tungsten carbide would meet the wear spec at a fraction of the cost.
En español sencillo El cliente pidió diamante por CVD, pero le convencimos de que nuestro carburo de tungsteno por HVOF cumpliría las especificaciones de desgaste a una fracción del coste.
Los talleres de proyección térmica suelen perder los trabajos de capas ultrafinas y de alta dureza frente al CVD, pero ganan cuando el cliente necesita un recubrimiento de más de unas pocas micras o una velocidad de deposición más rápida.
No lo confunda con
- VPS: El VPS (proyección por plasma al vacío) funde y acelera el polvo en una cámara de vacío, mientras que el CVD se basa en la reacción química de gases.
Términos relacionados
Thermal spray
Familia de procesos de revestimiento que funden o ablandan el material y lo proyectan sobre una superficie para formar una capa.
HVOF
High-velocity oxygen fuel: combustión de combustible y oxígeno a presión para proyectar polvo a velocidad supersónica.
VPS
Vacuum plasma spray: proyección por plasma dentro de una cámara inerte a baja presión para conseguir revestimientos metálicos sin óxidos.