Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est un procédé sous vide utilisé pour produire des matériaux solides de haute pureté et de haute performance. Contrairement à la projection thermique, qui repose sur la fusion et l'accélération de particules solides, le CVD repose sur les réactions chimiques de précurseurs gazeux directement à la surface du substrat. Il est souvent utilisé en complément ou en concurrence avec la projection thermique pour l'application de films minces spécialisés, bien qu'il soit limité par des vitesses de dépôt lentes et la nécessité d'une chambre à vide.
The customer asked for CVD diamond, but we convinced them our HVOF tungsten carbide would meet the wear spec at a fraction of the cost.
En français simple Le client a demandé un revêtement CVD en diamant, mais nous l'avons convaincu que notre dépôt HVOF en carbure de tungstène répondrait aux spécifications d'usure pour une fraction du coût.
Les ateliers de projection thermique perdent souvent les travaux de très faible épaisseur et de dureté extrêmement élevée au profit du CVD, mais l'emportent lorsque le client a besoin d'un revêtement de plus de quelques microns ou d'une vitesse de dépôt plus rapide.
Ne pas confondre avec
- VPS: La VPS (projection plasma sous vide) fond et accélère de la poudre dans une chambre à vide, tandis que le CVD repose sur la réaction chimique de gaz.
Termes associés
Thermal spray
Famille de procédés de revêtement qui consistent à fondre ou ramollir un matériau et à le projeter sur une surface pour former une couche.
HVOF
High-velocity oxygen fuel: combustion de carburant et d'oxygène sous pression pour projeter de la poudre à vitesse supersonique.
VPS
Vacuum plasma spray: projection plasma dans une enceinte inerte à basse pression pour obtenir des revêtements métalliques sans oxyde.