Chemical vapor deposition ist ein vakuumbasiertes Verfahren zur Herstellung hochreiner, hochleistungsfähiger Feststoffe. Im Gegensatz zum thermischen Spritzen, das auf dem Schmelzen und Beschleunigen fester Partikel beruht, basiert CVD auf den chemischen Reaktionen gasförmiger Vorläuferstoffe (Precursoren) direkt an der Substratoberfläche. Es wird oft parallel oder in Konkurrenz zum thermischen Spritzen für das Aufbringen spezieller Dünnschichten eingesetzt, ist jedoch durch langsame Abscheidungsraten und die Notwendigkeit einer Vakuumkammer begrenzt.
The customer asked for CVD diamond, but we convinced them our HVOF tungsten carbide would meet the wear spec at a fraction of the cost.
In klarem Deutsch Der Kunde fragte nach CVD-Diamant, aber wir konnten ihn davon überzeugen, dass unser HVOF-Wolframkarbid die Verschleißspezifikation zu einem Bruchteil der Kosten erfüllt.
Thermische Spritzbetriebe verlieren ultradünne Aufträge mit hoher Härte oft an CVD, gewinnen aber, wenn der Kunde eine Schichtdicke von mehr als einigen Mikrometern oder eine schnellere Abscheidungsrate benötigt.
Nicht zu verwechseln mit
- VPS: VPS (Vakuum-Plasmaspritzen) schmilzt und beschleunigt Pulver in einer Vakuumkammer, während CVD auf der chemischen Reaktion von Gasen beruht.
Verwandte Begriffe
Thermal spray
Gruppe von Beschichtungsverfahren, bei denen Werkstoffe aufgeschmolzen oder erweicht und auf eine Oberfläche geschleudert werden, um eine Schicht aufzubauen.
HVOF
Hochgeschwindigkeits-Flammspritzen: Verbrennen von Brennstoff und Sauerstoff unter Druck, um Pulver mit Überschallgeschwindigkeit zu verschießen.
VPS
Vakuum-Plasmaspritzen: Plasmaspritzen in einer Niederdruck-Inertgaskammer zur Herstellung oxidfreier Metallschichten.