Une pompe ionique à pulvérisation est constituée de réseaux de cellules d'anode en acier inoxydable entre des plaques de cathode en titane, maintenues à une tension de 3 à 7 kV dans un champ magnétique d'environ 0.1 à 0.2 T. Les électrons piégés dans les cellules ionisent le gaz, et les ions viennent frapper les cathodes, s'y enterrant et pulvérisant du titane frais qui piège chimiquement les gaz actifs. Elle est silencieuse, sans vibration et sans huile, atteint l'ultra-vide et sert également de jauge car son courant suit la pression, mais elle nécessite une pression de démarrage inférieure à environ 10⁻⁵ mbar.
Ion pump current fell off a cliff after the bake and the B-A agrees, we're in the 10 to the minus ten range.
En français simple Le courant de l'ion pump a chuté d'un coup après l'étuvage et la B-A confirme, nous sommes dans la gamme des 10 puissance moins dix.
Le courant de la pompe sert également de jauge de pression gratuite, mais à très basse pression, le courant de fuite par émission de champ fixe un plancher, de sorte que la lecture ne suit plus la pression réelle.
Aussi entendu sous
- sputter ion pump
- SIP
- VacIon
Termes associés
Argon instability
Pics de pression périodiques dans une pompe ionique diode lorsque l'argon enterré est à nouveau libéré par les cathodes.
Getter
Matériau réactif qui élimine le gaz d'un vide en le liant chimiquement à une surface métallique fraîche.
UHV
Ultra-vide : pressions inférieures à environ 10⁻⁷ mbar, atteintes uniquement avec des systèmes étuvés et à joints métalliques.
TSP
Pompe à sublimation de titane: filament de titane chauffé qui recouvre les parois voisines d'un film de getter frais.